化学腐蚀法制备发光硅纳米颗粒

编号：NMJS02219

篇名：化学腐蚀法制备发光硅纳米颗粒

作者：吴悦迪； 朱骏； 刘红飞； 陈海涛； 陈小兵；

关键词：硅纳米晶； 化学腐蚀； 光致发光； 量子限制效应；

机构： 扬州大学物理科学与技术学院；

摘要： 用硝酸和氢氟酸的混合酸液腐蚀普通硅粉,经过超声空化作用,分别在去离子水、无水乙醇中制备出硅纳米晶颗粒.硅纳米颗粒的平均粒径约为2 nm,它们或单独存在,或包裹于非晶态物质中.在320 nm的光激发下,硅纳米颗粒的悬浮液在390 nm处呈现一明显的紫外发光峰,理论分析证明该发光峰与硅量子点的量子限制效应有关.