纳米SiO2杂化材料的制备及其UV固化性能研究

编号：NMJS04688

篇名：纳米SiO2杂化材料的制备及其UV固化性能研究

作者：颉俊宝； 吴建兵； 马国章； 郝晓刚

关键词：纳米SiO2； KH-590； 接枝改性； 紫外光固化

机构： 太原理工大学化学化工学院； 山西省应用化学研究所； 太原理工大学煤科学与技术教育部和山西省重点实验室

摘要： 采用γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH-590)对纳米SiO2改性,制备了表面含—SH基团的纳米SiO2杂化材料。采用红外光谱(FTIR)对改性前后纳米SiO2的结构进行了分析表征,通过热失重(TGA)分析研究了改性纳米SiO2的接枝效果,研究了纳米SiO2杂化材料对紫外光固化涂层性能的影响,利用photo-DSC分析了改性纳米SiO2杂化材料对紫外光固化固化速率的影响。结果表明,含—SH基团的有机物接枝到纳米SiO2表面,接枝率为17.6%。与纳米SiO2相比,在SiO2表面引入—SH可有效克服光固化过程的氧阻效应,同时显著地提高了SiO2/紫外光固化杂化体系的C==C双键转化率、硬度和耐磨性能等。