稀释剂含量对光固化纳米羟基磷灰石复合材料机械性能的影响

编号：NMJS01167

篇名：稀释剂含量对光固化纳米羟基磷灰石复合材料机械性能的影响

作者：王云; 王青山;

关键词：稀释剂; 纳米羟基磷灰石复合材料; 固化深度; 机械强度;

机构： 滨州医学院附属医院口腔内科;

摘要： 目的比较不同含量稀释剂对新型光固化纳米羟基磷灰石复合材料机械性能的影响。方法按照双酚A-甲基丙烯酸缩水甘油酯(B is-GMA)与双甲基丙烯酸二缩三乙二醇酯(TEGDMA)的质量比8∶2、7∶3、6∶4合成三份树脂基质,然后与经过KH-570表面处理后的纳米羟基磷灰石按质量比为45∶55共混,制备成3组光固化纳米羟基磷灰石复合树脂,分别记为A组、B组、C组,A2型卡瑞斯玛复合树脂为对照组记为D组,每组制作5个试件,测定各组固化深度、抗压强度和挠曲强度,用方差分析比较其差异。结果随着稀释剂比例的增加,实验组的固化深度变化不明显,与对照组有明显统计学差异(P<0.05);实验组压缩强度与挠曲强度均呈现先升高后下降的趋势,其中B组的抗压强度和挠曲强度均与对照组无统计学差异(P>0.05)。结论树脂基质B is-GMA与稀释剂TEGDMA的质量比为7∶3时,新型光固化纳米羟基磷灰石复合材料机械性能较佳,固化深度能够达到国际标准。