氨硼烷制备的高宽厚比氮化硼纳米片及其形成机理

编号：NMJS09163

篇名：氨硼烷制备的高宽厚比氮化硼纳米片及其形成机理

作者：宋曲之 王兵 杜贻昂 吴爽 王应德

关键词： 氨硼烷 氮化硼纳米片 高宽厚比 热导率

机构： 国防科技大学空天科学学院新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室

摘要： 受限于商业氮化硼(BN)晶体尺寸及BN独特的层间相互作用,传统的剥离法难以实现高宽厚比(>5000)氮化硼纳米片(BNNSs)的制备。以氨硼烷为前驱体,经烧结和分离得到了高宽厚比的BNNSs。通过FTIR,TG,TEM,XRD等手段对BNNSs的组成结构及形成机理进行表征。结果表明:当温度超过80℃时,氨硼烷之间开始交联脱氢,氢气释放使得在交联过程中形成泡沫结构,并最终在1000℃完成无机化,得到含有BNNSs的BN泡沫,其中的膜结构即为BNNSs。所制备的BNNSs为六方晶型结构,厚度约为1.5 nm,宽度约30μm,宽厚比达到20000。将高宽厚比的BNNSs与聚乙烯醇(PVA)复合制备成复合膜,其导热及力学性能相较于小宽厚比BNNSs所制备的复合膜有显著提升,充分说明了高宽厚比BNNSs在BN基复合材料领域的应用优势。