等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究

编号：NMJS00731

篇名：等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究

作者：黄河激; 付志强; 潘文霞; 吴承康;

关键词：减压等离子体活性烧结; 碳化硅涂层; 高速沉积;

机构： 中国力学学会、中国科学院高超声速科技中心、中国科学院力学研究所

摘要： 利用减压等离子体活性烧结制备了碳化硅涂层。研究了不同等离子体气流流量、真空室压力、电源功率、基板距离等工艺参数组合对涂层质量的影响规律。通过正交实验确定了优化工艺参数组合,在Φ50mm以及50×50mm的较大石墨基板上获得了厚度和成分均匀,结合良好的SiC涂层。沉积速率高达20μm/min。利用小型电弧等离子体风洞对制备的涂层进行了烧蚀实验,结果表明所制备的涂层在有氧高温高速气流环境下无剥落,可有效保护基体石墨。