原子运动速度对激光驻波场作用下纳米光栅沉积特性的影响

编号：NMJS02569

篇名：原子运动速度对激光驻波场作用下纳米光栅沉积特性的影响

作者：张文涛； 朱保华； 熊显名； 黄静；

关键词：原子光刻； 纳米计量； 激光驻波场； 纳米光栅结构；

机构： 桂林电子科技大学电子工程与自动化学院； 贵州民族学院科技处；

摘要： 利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米光栅的沉积是一种新型的研制纳米结构方法,处于激光驻波场中的原子运动速度特性对最终纳米光栅的沉积特性有着重要的影响.利用半经典理论,基于4阶Runge-Kutta算法进行了不同铬原子纵向和横向运动速度条件下纳米光栅结构沉积的仿真研究.研究表明,铬原子纵向速度为最大概率速度960m/s时,所形成的纳米光栅的半高宽为1.49nm,对比度为62.1:1,当铬原子的纵向速度为半最大概率速度480m/s时,纳米光栅的半高宽为5.35nm,对比度下降为25.6:1.同时,对原子的横向速度影响沉积特性的研究表明,当原子的横向运动速度为0.25m/s时,纳米光栅结构的半高宽为4.18nm,条纹对比度为20.9:1,当原子的横向运动速度为0.50m/s时,纳米光栅结构的半高宽变为58.4nm,条纹对比度减小为8.9:1,沉积条纹质量下降.