用于纳米光刻的超分辨缩小成像平板超透镜研究

编号：NMJS02258

篇名：用于纳米光刻的超分辨缩小成像平板超透镜研究

作者：李恒一； 王长涛； 罗先刚；

关键词：纳米光刻； 超分辨成像； 表面等离子体； 超透镜；

机构： 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室； 中国科学院研究生院；

摘要： 本文提出和研究了利用超分辨缩小成像平板超透镜,在i线光源波长下实现纳米尺度光刻方法。为了在超分辨透镜像面位置获得高质量的光刻图形,采用超分辨透镜-光刻胶-反射银膜的结构方式,解决由于超透镜磁场偏振传输模式带来的成像光场畸变问题,大大提高了成像质量和光场对比度。采用掩模图形结构预补偿的方法,消除超分辨透镜的倍率畸变像差影响。基于有限元电磁计算方法,数值模拟结果验证了该方法在i线光源波长下实现纳米尺度缩小成像光刻的可能性。在i线(365nm)光源波长下,得到约35nm线宽的高对比成像光场模拟结果,并分析了结构参数变化对成像光场带来的影响。