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Co-C纳米复合薄膜的微结构、磁性能和磁输运特性

编号:NMJS01739

篇名:Co-C纳米复合薄膜的微结构、磁性能和磁输运特性

作者:唐瑞鹤; 杨志刚; 张弛; 杨白; 刘晓芳; 于荣海;

关键词: Co-C纳米复合薄膜; 退火; 微结构; 磁输运特性; 磁性能;

机构: 清华大学材料科学与工程系先进材料教育部重点实验室; 北京航空航天大学材料科学与工程学院;

摘要: 采用磁控溅射法在硅基片上制备了Co原子分数为13.0%的Co-C纳米复合薄膜.在真空条件下,对薄膜进行退火处理,退火温度从473K逐步提高至773K,保温时间30min.形貌观察表明,未经退火处理的薄膜中,Co颗粒均匀分布在非晶C基体中,Co颗粒尺寸为1.5-3.0nm;673K退火后,Co颗粒尺寸增大.磁性能测试表明,未经退火处理的薄膜磁性较弱,随着退火温度升高,薄膜的磁化强度和矫顽力均明显增大;当退火温度增加至673—773K时,薄膜呈现出低温铁磁性、室温超顺磁性的典型颗粒体系磁性特征.磁输运特性研究表明,未经退火处理的薄膜在温度为4.2K,磁场为3980kA/m时表现出1.33%的负磁电阻,随着退火温度升高,样品磁电阻值下降;电阻与温度关系在4.2—60K范围内符合lnR-T-1/4线性关系,磁输运遵循变程跳跃(variable range hopping)传导机制. 更多还原


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