纳米二氧化硅粒子的改性研究

编号：NMJS06091

篇名：纳米二氧化硅粒子的改性研究

作者：任小明[1,2] ;赵辉[2] ;朱妍娇[1,2] ;李爽[1,2] ;施德安[1,2] ;蒋涛[1,2]

关键词：纳米二氧化硅 硅烷偶联剂KH570 接枝率 工艺配方

机构： [1]湖北省有机化工协同创新中心(湖北大学),湖北武汉430062; [2]湖北大学材料科学与工程学院,湖北武汉430062

摘要： 利用傅立叶红外光谱仪、接触角测试仪和Zeta电位测定仪等仪器分别测试未改性和γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KH570）改性的纳米二氧化硅粒子表面的分子结构、接触角和电荷,分析两者之间的宏观性能和微观分子结构区别,以此判断改性效果;采用TG定量分析纳米二氧化硅（Si O2）表面偶联剂KH570的接枝率,研究分散液的p H值、偶联剂用量、水用量等工艺条件对接枝率的影响,结果表明：当偶联剂KH570用量在20%二氧化硅质量范围内,随着偶联剂用量增加接枝率不断增大,当超过这个用量后,则由于空间位阻效应导致接枝率变化不明显.