化学水浴法制备柔性衬底的ZnO纳米棒阵列

编号：NMJS05275

篇名：化学水浴法制备柔性衬底的ZnO纳米棒阵列

作者：蒋里锋； 董云飞； 黄培；

关键词：ZnO纳米棒阵列； 化学水浴法； 聚酰亚胺； 柔性衬底；

机构： 南京工业大学材料化学工程国家重点实验室；

摘要： 利用化学水浴法在预先制备的聚酰亚胺(PI)/ZnO薄膜衬底上生长ZnO纳米棒阵列。通过X线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对ZnO纳米棒阵列进行表征。考察衬底的性质、反应溶液的浓度、反应温度和反应时间对ZnO纳米棒阵列的影响。结果表明:c轴取向生长的ZnO薄膜衬底有助于形成六棱柱形ZnO纳米棒晶体。水溶液环境中生长的ZnO纳米棒晶体长径比受到反应溶液浓度和温度的影响。ZnO生长初期c轴方向生长速度较快,经过一段时间后纳米棒的直径开始增大,并且能和周围的纳米棒晶体融合生长形成更大的纳米棒晶体。