碳纤维毡表面磁控溅射纳米铜薄膜的工艺优化

编号：NMJS05189

篇名：碳纤维毡表面磁控溅射纳米铜薄膜的工艺优化

作者：赵晓曼； 王鸿博；

关键词：碳纤维毡； 纳米铜薄膜； 磁控溅射； 工艺优化； 电磁屏蔽；

机构： 生态纺织教育部重点实验室(江南大学)；

摘要： 以碳纤维毡为基材,优化了采用磁控溅射技术在其表面沉积纳米铜薄膜的工艺参数。运用正交试验分析方法,选取沉积时间、溅射功率和工作压强3个参数为因素,分析了各因素对碳纤维毡的电磁屏蔽效能和导电性能的影响。实验表明:磁控溅射铜薄膜后,碳纤维毡的电磁屏蔽效能提高了116.25%,导电性能提高了45.81%。;碳纤维毡表面溅射沉积铜薄膜的最佳工艺方案为:沉积时间50min,工作压强0.4Pa,溅射功率80W。