纳米SnO2磨料的制备及其在钌化学机械抛光中的应用（英文）

编号：CPJS02790

篇名：纳米SnO2磨料的制备及其在钌化学机械抛光中的应用（英文）

作者：储向峰； 李秀金； 董永平； 乔红斌； 白林山；

关键词：纳米二氧化锡； 磨料； 化学机械抛光； 钌；

机构： 安徽工业大学；

摘要： 利用固相反应法制备纳米二氧化锡磨料并研究了制备条件对平均粒径的影响。结果表明,在500℃/4h条件下制得的纳米二氧化锡粉体在水中有良好的分散性和稳定性。利用自制的抛光液对高纯钌片进行化学机械抛光,与二氧化硅磨料抛光液比较,材料去除速率和表面粗糙度都降低。当抛光液中含1%(质量分数,下同)二氧化锡、1%过硫酸铵、1%酒石酸和3mmol/L咪唑,pH=8.0,抛光压力为17.24kPa时,材料去除速率(MRR)和表面粗糙度(Ra)分别为6.8nm/min和4.8nm。