纳米铜粉的制备——从PCB碱性蚀刻废液回收方法研究

编号：FTJS04855

篇名：纳米铜粉的制备——从PCB碱性蚀刻废液回收方法研究

作者：罗小虎； 陈世荣； 杨琼； 谢金平； 吴耀程； 梁韵锐；

关键词：印制电路板； 碱性蚀刻液； 纳米铜粉；

机构： 广东工业大学； 广东致卓精密金属科技有限公司；

摘要： 利用碱性蚀刻废液通过化学还原的方法制备纳米铜粉。在碱性条件下用NaBH4作还原剂;表面分散剂和保护剂用聚乙烯比咯烷酮(PVP)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB);研究结果表明,用碱性蚀刻废液制备纳米铜最佳的条件为:反应温度60℃,反应时间60 min,PVP与CTAB的用量为1:5,制备出来的纳米铜粉为单质铜,颗粒粒径在100nm以内。