基于朗缪尔探针的硅离子空间分布特性及纳米晶粒生长过程研究

编号：NMJS04628

篇名：基于朗缪尔探针的硅离子空间分布特性及纳米晶粒生长过程研究

作者：邓泽超； 刘海燕； 张晓龙； 褚立志； 丁学成； 秦爱丽； 王英龙

关键词：纳米Si晶薄膜； 脉冲激光烧蚀； 空间分布； 朗缪尔探针

机构： 河北大学物理科学与技术学院,河北省光电信息材料重点实验室； 河北大学工商学院

摘要： 在室温、10 Pa氩气环境气体中,采用脉冲激光烧蚀技术,在以烧蚀点为圆心、半径为2 cm的玻璃弧形支架的不同角度处放置衬底,沉积了纳米Si晶薄膜。通过扫描电子显微镜、拉曼散射仪对制备样品的形貌和特性进行分析。结果表明:纳米Si晶粒以羽辉轴线为轴呈对称分布,在轴线处平均尺寸最大,随着衬底同轴线夹角的增加,晶粒尺寸逐渐减小。结合朗缪尔探针对空间不同位置羽辉中Si离子密度和热运动温度分布的诊断情况,从晶粒生长过程的角度对其尺寸随空间位置变化的结果进行了研究,得到了晶粒尺寸正比于烧蚀粒子密度和热运动温度的结论。