Al/Ni和Al/Ti纳米多层薄膜制备与表征

编号：NMJS04618

篇名：Al/Ni和Al/Ti纳米多层薄膜制备与表征

作者：李东乐； 朱朋； 付帅； 沈瑞琪； 叶迎华； 华天丽；

关键词：军事化学与烟火技术； Al/Ni纳米多层薄膜； Al/Ti纳米多层薄膜； 磁控溅射； 结构表征； 热分析；

机构： 南京理工大学； 海军驻昆明地区军事代表办事处；

摘要： 用磁控溅射法制备了Al/Ni、Al/Ti纳米多层薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射仪(XRD)对其进行了结构表征和成分分析。用差示扫描量热法(DSC)测定了纳米多层薄膜的反应放热量。结果表明:工作压力为0.4 Pa,Al、Ni、Ti溅射功率分别为200,220,180 W条件下制备的Al/Ni、Al/Ti多层薄膜表面均匀致密,无尖锐峰,层状结构分明,组成成分分别为Al、Ni和Al、Ti单质状态;Al/Ni、Al/Ti多层薄膜放热量分别为1134.64,918.36 J·g-1,达到理论值的82.2%,80.7%。