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新型纳米孔阵列制造方法
2019/05/15 点击 11421 次

中国粉体网讯  固态纳米孔传感器(solid state nanopore)因其低成本、小型化、易集成、稳定性高等优点被广泛应用于基因测序,生物分子检测以及环境监测等领域。然而目前传统的固态纳米孔制备工艺尚有较大的缺陷,无法正真快速便捷地制造出5 nm以下纳米孔阵列,从而无法满足工业界的需求。




近日,加拿大麦吉尔大学张宇宁博士, Yoichi Miyahara博士领导的团队开发出了一种新型的纳米孔阵列制造方法,有效地突破了固态纳米孔制造瓶颈,有望实现固态纳米孔工业化大规模生成。该方法利用导电探针自动定位到绝缘薄膜,然后施加高电压,在探针尖端引发定点的电击穿效应。继而电击穿产生的焦耳效应在薄膜指定位置制造出纳米级别小孔。该方法制孔速度快(~10 毫秒) 、可控性高、并且拥有极高的可重复性。此外,该研究也对电穿纳米孔制作原理进行了详细和深入的探讨。


相关论文以“Nanopore Formation via Tip〤ontrolled Local Breakdown Using an Atomic Force Microscope”为题在线发表在Small Methods上(DOI:10.1002/smtd.201900147)。


(中国粉体网编辑整理/小虎)


(来源:materialsviewschina )


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