国际纳米领域权威刊物《纳米快报》（Nano Letters）今年6月5日在线报道了南京航空航天大学纳米科学研究所的重要科学发现：本为绝缘体的金刚石结构氮化硼所构成的纳米薄膜具有十分稳定的金属属性，薄时甚至成为半导体。

　　 氮化硼是最典型的III-V族材料，在原子结构上能与所有的碳材料相对应；其特殊之处是比碳材料具有更好的热稳定性和抗腐蚀性，因此应用前景极为广阔。然而所有的氮化硼材料都为绝缘体，严重制约了其应用前景。

　　 南京航空航天大学纳米科学研究所张助华博士和教授郭万林，通过第一原理计算模拟发现，立方氮化硼纳米薄膜具有天然的金属性，在厚度小到一纳米以下还具有半导体性。这一发现为氮化硼的应用提供了新思路。

　　该工作受到《纳米快报》审稿人高度评价：“非常有趣的工作，为氮化硼材料在电子方面的应用开拓了新的可能”，是“及时的，引人深思的结果”。

　　近5年来，南京航空航天大学纳米科学研究所对氮化硼纳米材料开展了系统深入的研究，获得一系列有趣的发现，其成果发表在美国化学会会志等重要刊物。