纳米晶体Ti表面磁控溅射SiC薄膜的干摩擦学性能

编号：NMJS02685

篇名：纳米晶体Ti表面磁控溅射SiC薄膜的干摩擦学性能

作者：许晓静； 郝欣妮； 陆树显； 卓刘成； 夏登福；

关键词：纳米晶体钛基材； 薄膜； 摩擦磨损； 磁控溅射；

机构： 江苏大学；

摘要： 采用室温磁控溅射技术在纳米晶体钛(剧烈塑性变形制备)表面制备出碳化硅(SiC)薄膜,研究SiC薄膜的组织结构、纳米压痕行为和摩擦磨损性能。结果表明:SiC薄膜具有纳米尺度"畴"特征的表面形貌、高含量Si-C键、与基材间具有明显且呈梯度的元素扩散、低的纳米硬度(10.62GPa)、低的弹性模量(83.34GPa)和高的硬模比(0.128)。在1.96N载荷、氮化硅球(半径为2mm)为对摩件、室温空气条件下,其磨损速率为10-5mm3.m-1.N-1级、摩擦系数约为0.162,磨损后薄膜不出现裂纹和剥落。