柔性衬底上三氧化钼正方形纳米片的低温制备及生长机制

编号：NMJS02635

篇名：柔性衬底上三氧化钼正方形纳米片的低温制备及生长机制

作者：班冬梅； 王林茂； 洪丽； 潘孟美； 傅军；

关键词：三氧化钼； 纳米片； 合成； 生长机制；

机构： 海南师范大学物理与电子工程学院；

摘要： 采用热蒸发方法,以红外烧结炉为制备仪器,在聚酰亚胺柔性衬底上制备正方形纳米片.通过扫描电子显微镜、X-射线衍射谱表征产物的形貌、尺寸、成分及物相,并对纳米片的形成机理进行了探讨分析.研究表明,此纳米片为三氧化钼(MoO3)的正交结构.生长时间、衬底和蒸发源的间距对纳米片的尺寸有显著的影响.生长时间越长,衬底和蒸发源间距越小,纳米片的尺寸越大.