高比表面SiO_2纳米材料的制备与表征

编号：NMJS02378

篇名：高比表面SiO_2纳米材料的制备与表征

作者：王峰； 秦晓芳； 郭振良； 任淑华； 朱冬冬；

关键词：高比表面积； 二氧化硅纳米材料； 溶胶-凝胶法； 表面活性剂；

机构： 鲁东大学化学与材料科学学院；

摘要： 以正硅酸乙酯(TEOS)为硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为表面活性剂,通过溶胶-凝胶法制备出高比表面积二氧化硅纳米材料,并考察了CTAB对比表面积的影响。利用X射线衍射、傅里叶红外光谱、低温氮吸附、扫描和透射电镜对所得样品的物相、结构、表面积及形貌进行了表征。结果表明,所得样品为无定形高比表面积二氧化硅,比表面积随着CTAB量的增加而增大,最大可达1001m~2/g。