单壁空位缺陷碳纳米管稳定性的分子动力学

编号：NMJS01258

篇名：单壁空位缺陷碳纳米管稳定性的分子动力学

作者：张兴旺; 张凯旺;

关键词：分子动力学模拟; 空位缺陷; 单壁碳纳米管; 结构稳定性;

机构： 江苏省联合技术学院无锡交通分院机械工程系; 湘潭大学材料与光电物理学院;

摘要： 采用分子动力学模拟研究了单壁空位缺陷碳纳米管的结构稳定性,结果表明,当空位缺陷低至6.25%时,碳纳米管比较稳定;当空位缺陷在6.25%~12.50%范围内,碳纳米管不稳定,出现局部熔化的现象;而空位缺陷大于16.67%时,碳纳米管会破裂蒸发而不再存在。研究还表明,碳纳米管中的空位缺陷对其结构有着极大的影响,而且少量的空位缺陷(10%左右)就可以使碳纳米管发生形变扭曲。在低于3 500 K时,空位缺陷对碳纳米管结构稳定性影响的主要因素是缺陷的多少,随着温度的变化并不显著。