TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究

编号：NMJS00856

篇名：TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究

作者：肖卫华; 崔秀芳; 何正彪;

关键词：磁控溅射; 氮化钛; 薄膜; 性能;

机构： 泰州师范高等专科学校; 哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院;

摘要： 采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和纳米压痕仪等设备,研究了薄膜制备工艺参数(如基体温度、溅射功率、基体负偏压等)对薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等的影响。结果表明:TiN薄膜为多晶态,其溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂。