电沉积宽晶粒尺寸分布纳米镍的本征拉伸行为

编号：NMJS00668

篇名：电沉积宽晶粒尺寸分布纳米镍的本征拉伸行为

作者：郑耀东; 戴品强; 许伟长; 胡树韧;

关键词：纳米镍; 拉伸行为; 阴极析氢; 电沉积;

机构： 福州大学; 福建工程学院; 北京工业大学;

摘要： 通过直流电沉积制备平均晶粒度为27.2nm,宽晶粒尺寸分布(10～120nm)的纳米镍(B-NC-Ni)。在B-NC-Ni的拉伸实验中,存在着两类不同的工程应力-应变曲线及宏观断口,结果表明:完整的拉伸曲线即本征曲线,具有恒应力变形阶段,宏观断口呈切断;而不完整的拉伸曲线在平台出现之前已发生断裂,主要是由于电沉积时阴极析出的H可能会使镀层形成空位和微孔两类缺陷,均会加剧变形时晶界上裂纹的形成,宏观断口呈正断。此外,实验中杂质S(0.015%,质量分数,下同)对B-NC-Ni的拉伸性能影响可忽略。