等离子体化学气相沉积法制备致密性超浸润纳米硅氟薄膜

编号：NMJS08192

篇名：等离子体化学气相沉积法制备致密性超浸润纳米硅氟薄膜

作者：吕伟桃 毛静静 梁宸 李嘉惠 莫德禧 元德侃

关键词： 等离子体 化学气相沉积法 硅烷 致密性 硅氟薄膜

机构： 佛山市思博睿科技有限公司

摘要： 以含氟丙烯酸酯功能单体和硅烷为原料、无水乙醇为溶剂、氩气为工艺气体,经等离子体化学气相沉积在表面绝缘阻抗(SIR)测试板和无尘布上制得硅氟薄膜。探讨了硅烷种类和用量、含氟单体用量对镀硅氟薄膜试件性能的影响。结果表明,采用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH 570)、γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH 550)和乙烯基三甲氧基硅烷(A171)的镀硅氟薄膜SIR测试板的静态水接触角分别为136.0°、135.6°和135.7°,摩擦200次后分别下降了7.5°、10.2°和11.9°,通电时间分别为30 min、5 min和3 min,表面粗糙程度逐渐降低;随着KH 570用量由0.2份增加到5份,镀硅氟薄膜SIR测试板的通电时间从8 min逐渐延长至33 min;随着含氟单体用量从78份升至93份,镀硅氟薄膜无尘布的静态水接触角从126°升至154°。硅烷选择KH 570较佳,KH 570的较佳用量为2份,含氟丙烯酸酯功能单体的较佳用量为90份,此时镀硅氟薄膜SIR测试板的静态水接触角为136.0°,通电时间为30 min。