纳米SiO_2的均匀分散及其对MC尼龙6晶型结构及晶型转变的影响

编号：NMJS00285

篇名：纳米SiO_2的均匀分散及其对MC尼龙6晶型结构及晶型转变的影响

作者：蔡力锋; 林志勇;

关键词：纳米二氧化硅; MC尼龙6; 晶型结构; 晶型转变;

机构： 莆田学院环境与生命科学学院; 华侨大学材料科学与工程学院;

摘要： 通过阴离子开环聚合法制备纳米二氧化硅(Si O2)/MC尼龙6原位复合材料,采用透射电子显微镜(TEM)对纳米粒子在基体中的分散行为进行表征,结果表明Si O2约以30～70nm左右的尺寸均匀分散在基体中。广角X射线衍射(WAXD)结果表明,纯MC尼龙6及其原位复合材料均呈现典型尼龙6的α晶型衍射峰,纳米Si O2的引入在MC尼龙6结晶过程中削弱了大分子链在c轴的取向。液氮淬冷样品经退火处理后的WAXD结果表明,纳米Si O2和MC尼龙6之间的相互作用阻碍了大分子链段的运动,从而使得γ晶型向α晶型的转变速率降低。