Si衬底上插入SiO2膜对Ag纳米颗粒陷光性能的影响

编号：NMJS06544

篇名：Si衬底上插入SiO2膜对Ag纳米颗粒陷光性能的影响

作者：白一鸣 ;延玲玲 ;王艳宁 ;苏琳 ;刘海 ;陈诺夫 ;姚建曦

关键词： 二氧化硅膜 银纳米颗粒 形成机理 消光谱 陷光性能

机构： 华北电力大学新能源电力系统国家重点实验室,北京102206

摘要： 采用磁控溅射法在Si衬底上制备了SiO2介质膜，系统地研究了SiO2膜引入对Ag纳米颗粒的表面覆盖率、形貌、形成机理和光学性质的影响．研究发现引入SiO2介质膜后，Ag纳米颗粒的表面覆盖率显著增加，平均粒径明显降低．基于现有的Ag纳米颗粒形成机理，提出了粗糙表面Ag膜断裂模型以解释其形貌发生变化的原因．紫外一可见光分光光度计测试表明，引入Si02膜并优化其厚度，可使Ag纳米颗粒的偶极消光峰最大红移86nm，但消光峰强度明显下降．数值模拟计算表明，引入SiO2膜的Ag纳米颗粒所能散射的光子数量最小减少2×10^18个．因此，在Si衬底上沉积Si02膜，不利于Ag纳米颗粒陷光性能的提高．