Ta-Si-N纳米复合薄膜中的界面结构与力学性能

编号：CPJS05533

篇名：Ta-Si-N纳米复合薄膜中的界面结构与力学性能

作者：刘学杰 ;曾海清 ;任元

关键词： Ta-Si-N纳米复合表面 第一性原理 界面结构 力学性能

机构： 内蒙古科技大学机械工程学院,内蒙古包头014010

摘要： 为了考察Ta-Si-N复合薄膜的力学性能,采用基于密度泛函理论（DFT）的第一性原理方法对Ta-Si-N纳米复合薄膜中的界面结构形式及界面力学性能进行了研究.研究结果表明：Ta-Si-N纳米复合薄膜中存在置换型界面与间隙型界面两类结构的界面.比较其体模量、剪切模量和弹性模量,可以看出Ta-Si-N中置换型界面的力学性能优于间隙型界面的力学性能,而这两种界面的力学性能均不如Ta N晶体的力学性能.Ta N晶体弹性模量的各向异性比较突出,两种界面的弹性模量显示为各向同性.