水热法-高温煅烧处理制备NixCo1-xMoO4纳米片阵列/泡沫Ni复合材料及其赝电容性能研究

编号：NMJS06359

篇名：水热法-高温煅烧处理制备NixCo1-xMoO4纳米片阵列/泡沫Ni复合材料及其赝电容性能研究

作者：余大江 ;郭绍义 ;袁永锋 ;张志强

关键词： 超级电容器 纳米片阵列 水热法 NixCo1-xMoO4

机构： 浙江理工大学机械与自动控制学院,杭州310018

摘要： 采用水热法-高温煅烧处理制备Ni_xCo_（1-x）MoO_4（x=0、0.25、0.50、0.75和1.00）纳米片阵列,利用XRD、FESEM、循环伏安法和恒流充放电测试方法,分析其晶体结构、微观形貌和赝电容性能。研究表明：Ni_xCo_（1-x）MoO_4纳米片阵列的晶体结构和微观形貌与Ni的相对含量有关;其中,晶体结构为NiMoO_4物相的Ni_（0.50）Co_（0.50）MoO_4纳米片阵列显示出高的比电容、增强的循环稳定性和高倍率放电能力,是一种性能优异的赝电容材料。