铜纳米线的液相制备及其表面修饰研究进展

编号：NMJS06269

篇名：铜纳米线的液相制备及其表面修饰研究进展

作者：高琪 ;阚彩侠 ;李俊龙 ;楼叶珂 ;魏菁菁

关键词： 铜纳米线 液相还原法 单晶 孪晶 表面氧化 表面修饰

机构： 南京航空航天大学理学院应用物理系,南京211106

摘要： 在现代纳米科学技术领域中,铜纳米线由于具有独特的光学、电学、力学和热学性质而成为制备透明柔性导电电极的优良材料。铜价格低廉,自然存储量较大,是实际应用中替代贵金属的理想材料。然而,将铜离子还原为单质铜比较困难,且单质铜非常容易被氧化,这成为应用中亟需解决的关键问题。如何制备单分散、稳定且具有抗氧化性的铜纳米线也成为该领域的研究热点。在各种制备铜纳米线的方法中,液相还原法不仅可以解决以上问题,且该方法具有制备条件限制少、成本低、简单易行等优点而被广泛应用于铜纳米线的大量合成。本文从铜纳米线的研究背景和研究价值入手,首先综述了不同（光滑或粗糙、单晶或孪晶）铜纳米线的液相制备方法及其生长机制。讨论了铜纳米线的氧化及其抗氧化表面包覆问题。最后对铜纳米线的研究意义和应用前景做出展望。