电阻热蒸发与磁控溅射对制备二维银纳米阵列的影响

编号：NMJS05025

篇名：电阻热蒸发与磁控溅射对制备二维银纳米阵列的影响

作者：李昌伟； 张春婧； 孔令琦；

关键词：纳米球刻蚀； 电阻热蒸发； 磁控溅射； 沉积方向； 吸收光谱；

机构： 厦门大学材料学院； 厦门大学中国-澳大利亚功能纳米材料联合实验室； 中航飞机股份有限公司汉中飞机分公司；

摘要： 利用纳米球刻蚀法制备二维银纳米阵列的过程中,不同的物理气相沉积方法得到的银纳米阵列结构形貌不同。其中电阻热蒸发沉积得到完整三角形状的二维银纳米阵列,而磁控溅射沉积得到蜂窝状银纳米阵列。同时在沉积过程中通过改变金属粒子沉积方向也可获得结构不同的银纳米阵列,其中将基片固定,使蒸发源垂直沉积时制备出的二维银纳米阵列更加致密、完整。最后吸收光谱验证了采用电阻热蒸发垂直沉积时得到结构完整且面积较大的银纳米阵列,以上研究为二维银纳米阵列的应用提供了条件。