纳米碳化硅抛光液的制备及其对蓝宝石晶片抛光性能的研究

编号：NMJS04855

篇名：纳米碳化硅抛光液的制备及其对蓝宝石晶片抛光性能的研究

作者：熊伟； 储向峰； 董永平； 张王兵； 叶明富； 孙文起

关键词：SiC； 蓝宝石晶片； 化学机械抛光； 分散剂

机构： 安徽工业大学化学化工学院

摘要： 制备了一种纳米SiC抛光液,用透射电镜观察其粒子形貌,通过纳米粒度仪研究了分散剂种类对悬浮液中SiC的粒径分布和Zeta电位的影响,并用制备的抛光液对蓝宝石晶片进行化学机械抛光。使用原子力显微镜观察蓝宝石晶片抛光后的表面形貌。结果表明:SiC磨料在以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为分散剂的悬浮液中分散效果最好;在相同试验条件下,采用质量分数1%的SiC抛光材料的去除速率最大,为24.0 nm/min,获得蓝宝石晶片表面质量较好,表面粗糙度R a为2.2 nm。