基于广义椭偏仪的纳米光栅无损检测

编号：NMJS04328

篇名：基于广义椭偏仪的纳米光栅无损检测

作者：马智超； 徐智谋； 彭静； 孙堂友； 陈修国； 赵文宁； 刘思思； 武兴会； 邹超； 刘世元；

关键词：纳米压印； 光栅； 无损检测； 拟合；

机构： 华中科技大学光学与电子信息学院； 武汉科技大学理学院； 华中科技大学数学制造装备与技术国家重点实验室；

摘要： 本文制备了硅基和光刻胶两种材料的纳米光栅,利用自研制的新型广义椭偏仪对该纳米结构的光栅进行了测量,随后利用建立的拟合模型对其测量数据进行了拟合,结果证明了运用该仪器进行纳米光栅结构无损检测的可行性,在入射角60,方位角75的测量条件下,纳米结构关键尺寸、侧壁角等三维形貌参数的测量精度最大可达99.97%,最大误差小于1%,该技术对于无损检测有着一定的推动意义.