纳米二硫化钼的合成新工艺研究

编号：NMJS03310

篇名：纳米二硫化钼的合成新工艺研究

作者：马军现； 雷雪峰； 郭艳峰； 孙延一；

关键词：气泡液膜法； 纳米二硫化钼； 合成工艺；

机构： 电子科技大学中山学院化学与生物系；

摘要： 以钼酸钠(Na2MoO4)、水合肼(N2H4.H2O)、硫代乙酰胺(CH3CSNH2)和盐酸(HCl)为原材料。利用气泡液膜法合成工艺制备纳米级的二硫化钼。研究了相关影响因素对合成工艺的影响,确定了最佳合成工艺条件。结果表明,合成的最佳工艺条件为:在得到前驱液的条件下,起泡剂选择6501表面活性剂,用量为理论产率的3%,包覆剂选择油酸,用量为理论产率的2%,反应温度为30℃,反应时间为40 min,控制搅拌速度为5000 r/min,控制体系的pH为1;在该工艺条件下制备得到分散均匀、无团聚、粒径范围为60~90 nm的纳米级的二硫化钼。