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原子层沉积设备生产商微导纳米登陆科创板
2022/12/27 点击 787 次

中国粉体网讯  12月23日,国内少数以ALD技术为核心的薄膜沉积设备生产商———江苏微导纳米科技股份有限公司(以下简称“微导纳米”)正式登陆科创板,开启公司高质量发展新篇章。公司表示,未来将继续以薄膜沉积技术为重要抓手,不断丰富产品矩阵,力争成为世界级的微纳技术解决方案装备制造商。

薄膜沉积是指在基底上沉积特定材料形成薄膜,使之具有光学、电学等方面的特殊性能。薄膜沉积设备的设计制造涉及化学、物理、工程等多门学科的跨界综合运用,按工艺原理的不同可分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)设备,按设备形态的不同可分为批量式(管式)和空间型(板式)两种技术路线。微导纳米目前产品主要以批量式(管式)ALD设备为主。

ALD技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法,具有较高的技术壁垒。通过ALD镀膜设备可以将物质以单原子层的形式一层一层沉积在基底表面,每镀膜一次/层为一个原子层,根据原子特性,镀膜10次/层约为1nm。由于ALD技术表面化学反应具有自限性,因此拥有多项独特的薄膜沉积特性:(1)三维共形性,广泛适用于不同形状的基底;(2)大面积成膜的均匀性,且致密、无针孔;(3)可实现亚纳米级的薄膜厚度控制。




基于上述特性,ALD技术广泛适用于不同场景下的薄膜沉积,在光伏、半导体、柔性电子等新型显示、MEMS、催化及光学器件等诸多高精尖领域均拥有良好的产业化前景。




在光伏领域,微导纳米ALD量产设备镀膜速率已经突破10,000片/小时。镀膜效果以沉积Al2O3薄膜进行测量,其薄膜厚度均匀度达到片内不均匀性≤3%、片与片之间不均匀性≤3%、批与批之间不均匀性≤3%。公司产品具备优良的产能提升能力与产品性能,在保障光电转换效率的同时,有效帮助下游电池片厂商大幅降低了设备投资额与生产消耗成本。太阳能电池片技术路线目前正由PERC工艺向新型高效电池(TOPCon、HJT等)发展,公司在行业中已率先取得无锡尚德、通威太阳能、晶科能源、商洛比亚迪等公司TOPCon产线设备订单。

在半导体领域,公司是国内首家成功将量产型High-k原子层沉积设备应用于28nm节点集成电路制造前道生产线的国产设备公司。设备总体表现和工艺关键性能参数达到国际同类水平,并已获得客户重复订单认可,成功解决了一项半导体设备“卡脖子”难题。除此之外,公司已经开展在半导体其他细分领域以及柔性电子领域中的应用。

资料来源:微导纳米招股说明书

(中国粉体网编辑整理/平安)

注:图片非商业用途,存在侵权告知删除!

(来源:中国粉体网)


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