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美国用化学插层法获得氮化硼纳米带
2011/06/30 点击 5564 次
美国一个合作研究小组日前宣布,他们通过往氮化硼纳米管中插入钾原子的方法,成功制得长度、厚度均匀的无缺陷氮化硼纳米带。研究结果公布在新一期的《纳米快报》上。


图为氮化硼纳米管在钾原子的挤压下,被撕成氮化硼纳米带的示意图,蓝色小球为硼,黄色为氮,粉色为钾。(图片来源:Alex Zettl课题组)

    作为一种二维单晶体,纳米带在电磁性能方面的应用有着巨大潜力,比如石墨烯纳米带。而氮化硼纳米带除了具有与石墨烯纳米带类似的优点外,还有着一些额外的电磁与光学特性。

    在这项最新研究中,加州大学伯克利分校艾利克斯·泽特尔(Alex Zettl)教授的研究小组与莱斯大学詹姆斯·图尔(James Tour)教授的研究小组合作,采用化学插层的方法,将钾原子插入氮化硼纳米管中,随着钾原子的增多,被插层纳米管的化学键逐渐断裂,露出的纳米带边缘与钾原子之间形成新化学键,由此引发纳米管进一步纵向撕开,最终形成纳米带。

    采用这种方法,他们得到均一宽度为20纳米、长度至少达到1微米的的纳米带,且该纳米带几乎无缺陷。

    目前,泽特尔和他的小组在进行着下一步研究,他们尝试采用不同的氮化硼纳米管前体进行合成,希望能够增加纳米带的产量并改进提纯工艺。(科学网 张笑/编译)

相关仪器及方法:2010型透射电镜 化学插层

    实验室:美国加州大学伯克利分校物理系、化学系、综合纳米力学系统中心 劳伦斯·伯克利实验室材料科学部 莱斯大学化学系、机械工程与材料科学系、斯莫利纳米尺度科技研究所
(来源:科学时报)


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