用磁控溅射法制备纳米膜防辐射布的工艺探讨

编号：NMJS01948

篇名：用磁控溅射法制备纳米膜防辐射布的工艺探讨

作者：叶毓辉； 杨志敏； 何玉兰；

关键词：磁控溅射； 纳米膜； 防辐射布； 工艺；

机构： 深圳市计量质量检测研究院；

摘要： 利用磁控溅射技术在涤纶无纺布表面沉积纳米结构银薄膜,以制得防辐射布。探讨了靶基距、溅射功率、工作气压和进气量等工艺条件对薄膜屏蔽效能的影响。结果表明在时间规定条件下,对屏蔽效能影响大小的排序是:工作气压>靶基距>进气量>溅射功率。