Ni掺杂及NiO复合V205纳米粉体光催化性能的研究

编号：CPJS04404

篇名：Ni掺杂及NiO复合V205纳米粉体光催化性能的研究

作者：丁士华[1,2]

关键词：Sol-gel法 纳米粉体 光催化 甲基橙

机构： [1]西华大学材料科学与工程学院,四川成都610039; [2]西华大学能源与环境学院,四川成都610039

摘要： 采用Sol-gel法,以偏钒酸铵、尿素、乙酰丙酮、硝酸镍、氨水和去离子水等为原料,制备 Ni掺杂的 V2O5纳米粉体以及NiO/V2O5复合纳米粉体,利用XRD研究2 种制备方法对V2O5结构的影响,并研究不同的制备 方法获得的纳米粉体对光催化降解甲基橙性能的影响.结果表明：方法1 制备的M 掺杂V2O5纳米粉体晶粒尺寸 增大,当掺杂浓度为4% 时,光催化降解率达到51 % ;方法2 制备的NiO/V2O5复合纳米粉体时, NiO抑制了 V2O5纳 米粉体晶粒尺寸的长大,且未出现NW 及 V2O5以外的其他杂相,当掺杂浓度为4 % 时,光催化效率达到68. 21 %.