CeO2纳米线的合成及影响因素的探讨

编号：NMJS03698

篇名：CeO2纳米线的合成及影响因素的探讨

作者：彭欢； 周新木； 李静； 黄肖凤； 周雪珍； 李永绣

关键词：氧化铈； 纳米线； 合成； 影响因素

机构： 南昌大学化学系

摘要： 采用水热法合成了粒径为25 nm的CeO2纳米线,采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)对其进行了表征和观察;同时考察了沉淀剂种类、沉淀剂浓度、分散剂种类和反应时间等因素对纳米线的合成的影响,最终得到合成纳米线的最佳工艺条件为:以氯化铈为铈源,氢氧化钠为沉淀剂,CTAB为分散剂时所合成的纳米线分散性好,粒径均一。讨论了纳米线的影响因素。