离子束辅助沉积法制备TiAlN/TiB_2纳米多层膜的研究

编号：NMJS03301

篇名：离子束辅助沉积法制备TiAlN/TiB_2纳米多层膜的研究

作者：孙延东； 颜景岳； 张帅； 董磊； 曹猛； 刘梦寅； 李德军；

关键词：离子束辅助沉积； TiAlN/TiB2纳米多层膜； 硬度；

机构： 天津师范大学物理与电子信息学院；

摘要： 运用离子束辅助沉积法(IBAD)制备了一系列具有不同调制比例的TiAlN/TiB2纳米多层膜,利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和纳米压痕等表征手段研究了薄膜调制比例对其硬度、内应力和膜基结合力等力学性质的影响.结果表明:随着调制比例从8∶1变化到25∶1,多层膜的硬度在29～34 GPa之间变化,所有多层膜的硬度均高于TiAlN和TiB2两种各体层材料通过混合法则得的结果,结合XRD结果分析认为,TiAlN(111)择优取向是薄膜硬度升高的一个重要原因.