用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构

编号：NMJS03210

篇名：用掠入射XAFS方法研究Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构

作者：于海生； 黄宇营； 魏向军； 姜政； 王建强； 顾颂琦； 张硕； 高星；

关键词：掠入射； X射线吸收精细结构(XAFS)； Ti/Ni/Ti薄膜； X射线反射(XRR)；

机构： 中国科学院上海应用物理研究所；

摘要： 在上海光源BL14W1线站建立了掠入射XAFS(GI-XAFS)方法,利用GI-XAFS方法并结合X射线反射(XRR)研究了直流磁控溅射方法生长在W/Si基底上的Ti/Ni/Ti纳米薄膜的界面结构随Ni层厚度的变化。结果表明,随着薄膜厚度的增加,Ni/Ti界面层间的相互扩散有所增加,Ni层厚度为5 nm时,Ni/Ti界面层间的扩散厚度为2 nm左右;Ni层厚度为1 nm时,由于无序度较大,Ni-Ni配位和Ni-Ti配位的键长有所收缩;随着薄膜Ni层厚度的减小,无序度逐渐增加,Ni-Ti配位增加,Ni-Ni配位减少。